产品介绍

酸碱清洗机技术方案


1. 设备用途:该设备用于半导体器件制造过程中的湿法清洗工艺。

2. 主要技术指标

    2.1. 人工手动完成 Cassette 槽间转移。

    2.2. 晶圆规格:设备满足 8 寸及以下晶圆。

    2.3. 花篮规格:标准特氟龙花篮(Cassette),25 片/花篮。

    2.4. 槽体规格:1 花篮/槽次。

    2.5. 上下料方式:人工手动。

3. 设备一览表

序号设备名称
数量
单台设备组成部件设备外形尺寸(mm)备注
部件名称数量
1晶圆清洗干燥机
设备主机1L2800×W1300×H2100

4. 设备总体描述

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                        图 1.整机结构外形示意图(参考)



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